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鄭科探等離子清洗機(jī)清洗原理等離子清洗機(jī)作為一種微觀固體表面的處理設(shè)設(shè)備，是一種全新的表面處理方案。等離子體是物質(zhì)的一種狀態(tài)，也叫做物質(zhì)的第四態(tài)。對(duì)氣體施加足夠的能量使之離化便成為等離子狀態(tài)。等離子體的...

鄭科探 高低溫真空探針臺(tái) KT-Z165M4RT精巧型真空腔體測(cè)試腔主要用于氣體敏感材料或其他對(duì)環(huán)境敏感性材料中的電信號(hào)測(cè)試。測(cè)試腔體內(nèi)部裝有不銹鋼加熱承載臺(tái)，臺(tái)面為φ30，臺(tái)面最高可升溫到最高400...

等離子清洗機(jī)表面處理設(shè)備主要應(yīng)用于半導(dǎo)體、鍍膜工藝、PCB制程、PCB制程、元器件封裝前、COG前、真空電子、連接器和繼電器等行業(yè)的精密清洗，塑料、橡膠、金屬和陶瓷等表面的活化以及生命科學(xué)實(shí)驗(yàn)等。

鄭科探 真空測(cè)試腔主要用于氣體敏感材料或其他對(duì)環(huán)境敏感性材料中的電信號(hào)測(cè)試。測(cè)試腔體內(nèi)部裝有不銹鋼加熱承載臺(tái)，臺(tái)面為50x50mm，臺(tái)面最高可升溫到最高350℃。該腔體設(shè)計(jì)有進(jìn)氣口和抽真空接口和2-4...

鄭科探 分子泵控制器廣泛應(yīng)用于表面分析、加速器技術(shù)、等離子體技術(shù)、電真空器件制造及真空的各個(gè)領(lǐng)域。設(shè)備的具體組成主要包括真空測(cè)量系統(tǒng)、真空室、閥門(mén)及真空管路、電器控制系統(tǒng)等

鄭科探微型真空探針臺(tái)廣泛應(yīng)用于表面分析、加速器技術(shù)、等離子體技術(shù)、電真空器件制造及真空的各個(gè)領(lǐng)域。設(shè)備的具體組成主要包括真空測(cè)量系統(tǒng)、真空室、閥門(mén)及真空管路、電器控制系統(tǒng)等

鄭科探 分子泵工作原理標(biāo)準(zhǔn)復(fù)合分子泵機(jī)組是一臺(tái)清潔的高真空獲得設(shè)備。此設(shè)備是根據(jù)真空知識(shí)原理，利用機(jī)械泵、渦輪分子泵組合成的真空獲得系統(tǒng)，具有啟動(dòng)時(shí)間快、真空度高、操作方便等特點(diǎn)。廣泛應(yīng)用于表面分析、...

外置式氣體配比器 混合配比質(zhì)量流量計(jì)系統(tǒng)該氣體配比器可以外接兩種或多種氣體,采用CS200或CS100質(zhì)量流量計(jì),氣路管道采用316拋光管制作耐腐蝕性強(qiáng)，閥門(mén)采用高壓球閥做截止閥，氣路接頭采用全不銹鋼...

上海實(shí)驗(yàn)室真空PECVD射頻模塊薄膜均勻沉積通過(guò)反應(yīng)氣態(tài)放電，有效地利用了非平衡等離子體的反應(yīng)特征，從根本上改變了反應(yīng)體系的能量供給方式低溫?zé)岬入x子體化學(xué)氣相沉積法具有氣相法的所有優(yōu)點(diǎn)，工藝流程簡(jiǎn)單，...

等離子清洗機(jī)清洗缺點(diǎn)清洗機(jī)內(nèi)置高純石英倉(cāng)體，采用了新型的電極結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)和固態(tài)電源技術(shù)，使其有效容積增大，不同真空 氣體環(huán)境下容易匹配，且控制頻率穩(wěn)定。真空倉(cāng)門(mén)有觀察窗，可直觀物體的處理過(guò)程，其射頻電源與...